POLOS 用於(yu)半導體(ti)上的(de)單(dan)點(dian)測量裝置(zhi)

POLOS 用於(yu)半導體(ti)上的(de)單(dan)點(dian)測量裝置(zhi)

polos 單(dan)點(dian)測量裝置(zhi)

微(wei)型化(hua)解決(jue)方(fang)案，用於(yu)對(dui)透(tou)明和(he)半透(tou)明的(de)單(dan)層(ceng)薄膜(mo)或薄膜(mo)堆(dui)疊進行(xing)精(jing)確和(he)精(jing)確的(de)非(fei)破壞性(xing)層(ceng)厚測量。保證高度(du)準(zhun)確和(he)可重復(fu)的(de)測量。

POLOS  FR-ES 是壹(yi)種緊湊(cou)、輕(qing)便的(de)裝(zhuang)置，用於(yu)塗(tu)層(ceng)表(biao)征(zheng)。使(shi)用 FR-ES，用戶(hu)可以在 370 - 1700 nm 光(guang)譜範圍內(nei)進行(xing)反射率(lv)和(he)透(tou)射率(lv)測量。

FR-ES 平臺(tai)旨(zhi)在提供(gong) 塗層(ceng)表(biao)征(zheng)性(xing)能(neng)。

FR-ES 可用於(yu)各(ge)種不同(tong)的(de)應(ying)用，例(li)如(ru)：薄膜(mo)厚度(du)、折射率(lv)、顏色、透(tou)射率(lv)、反(fan)射率(lv)等等。有(you)三種配置(zhi)可供(gong)選擇：

可見(jian)光(guang)/近紅外(wai) （370 - 1020 nm）、NIR-N1 （850 - 1050 nm）、NIR （900 - 1700 nm）。

然(ran)後，有(you)各(ge)種各樣的(de)配(pei)件，例(li)如(ru)：

濾(lv)光(guang)片(pian)可在某些(xie)光(guang)譜範圍內(nei)阻(zu)擋光(guang)線(xian)

FR-Mic 用於(yu)非(fei)常(chang)小(xiao)區域的(de)測量

手動(dong)載物臺(tai)，25 x 25 mm、100 x 100 mm 或 200 x 200 mm

用於(yu)吸光(guang)度(du)/透(tou)射率(lv)和(he)化(hua)學濃(nong)度(du)測量的(de)膠(jiao)片(pian)/比色皿支(zhi)架(jia)

用於(yu)漫(man)反(fan)射和(he)總(zong)反射的(de)積(ji)分球(qiu)

通(tong)過(guo)不同(tong)模(mo)塊的(de)組合(he)，最(zui)終(zhong)設(she)置(zhi)滿(man)足任(ren)何(he)最(zui)終(zhong)用戶(hu)的(de)需(xu)求(qiu)。

polos  測量臺的(de)應(ying)用：

大學(xue)和研究(jiu)實驗室(shi)

半導體(ti)

生命科學

聚合(he)物和(he)光(guang)刻膠(jiao)特性(xing)

化(hua)學測量

介(jie)電特性(xing)

生物 醫學

硬(ying)化(hua)塗層(ceng)， 陽(yang)極(ji)氧化(hua)， 金屬零件加工

光(guang)學(xue)鍍膜(mo)

非金(jin)屬薄膜(mo)

FR-ES 370 - 1020 nm 光(guang)譜範圍

緊湊(cou)、輕(qing)便(bian)的(de)臺(tai)式系(xi)統

廣(guang)泛(fan)應用於(yu)半導體(ti)、大學(xue)和研究(jiu)實驗室(shi)、生命科學等領(ling)域

廣(guang)泛(fan)的(de)附(fu)件

單(dan)擊分(fen)析（無(wu)需(xu)初始(shi)猜(cai)測）

品(pin)牌(pai)：POLOS 系(xi)列

產品(pin)編(bian)號(hao)：FR-ES-VIS/NIR 近紅外(wai)

大小(xiao)：FR-ES 系(xi)列

材(cai)料：臺(tai)式系(xi)統

厚度(du)範圍：12 納米 - 100 微(wei)米

光(guang)譜範圍：370 - 1020 納米

光(guang)源 MTBF：鹵(lu)素(su)燈(deng)（內(nei)部）

 POLOS 用於(yu)半導體(ti)上的(de)單(dan)點(dian)測量裝置(zhi)